高導(dǎo)熱硅膠墊片產(chǎn)生粘膜、脫粉的問(wèn)題困擾，如何解決呢？

文章出處：常見(jiàn)問(wèn)題責(zé)任編輯：東莞東超新材料科技有限公司發(fā)表時(shí)間：2022-09-29

　　問(wèn)題1：是不是導(dǎo)熱系數(shù)越高，傳熱就越快呢？

　　答：理論上來(lái)說(shuō)物體導(dǎo)熱系數(shù)越高，傳熱越快。但導(dǎo)熱是物體本身的性質(zhì)，而傳熱效果與環(huán)境條件有關(guān)，如：傳導(dǎo)時(shí)間與溫差成反比關(guān)系，溫差越大傳導(dǎo)時(shí)間也越短；物體越厚傳導(dǎo)越慢；傳導(dǎo)總熱能越大傳導(dǎo)越慢。

? 導(dǎo)熱膠填料

　　問(wèn)題2：高導(dǎo)熱墊片導(dǎo)熱粉，樣品我試了幾次都出現(xiàn)粘膜問(wèn)題，效果都不太理想，請(qǐng)問(wèn)哪里出問(wèn)題了。
　　答：由于高導(dǎo)熱墊片中導(dǎo)熱填料的添加量較高，所以配方、工藝等各方面都需要相互配合才能做得比較好。您出現(xiàn)粘膜的問(wèn)題，和膠體強(qiáng)度、抽真空、壓片工藝都有關(guān)系，粉的粘度較高，油粉混合不均，加熱時(shí)間較短都可導(dǎo)致墊片產(chǎn)生粘膜和脫粉現(xiàn)象。可通過(guò)降低粉的粘度，調(diào)整油粉混合比，攪拌混合均勻等方式解決。需要具體問(wèn)題具體分析。如果有需要的話，我司可以派技術(shù)人員到現(xiàn)場(chǎng)做技術(shù)指導(dǎo)和交流。

　　問(wèn)題3：目前常用的導(dǎo)熱系數(shù)測(cè)試方法有哪些？

　　從測(cè)試機(jī)理上主要分為穩(wěn)態(tài)法和非穩(wěn)態(tài)法；穩(wěn)態(tài)法包括平板法、護(hù)板法、熱流計(jì)法等；非穩(wěn)態(tài)法又稱為瞬態(tài)法，包括熱線法、熱盤法、激光法等。穩(wěn)態(tài)法是一種基準(zhǔn)方法，最開(kāi)始是用于檢測(cè)其他方法精度的依據(jù)。穩(wěn)態(tài)法能準(zhǔn)確測(cè)量的影響因素太多，而且操作不方便，因此現(xiàn)在研究較多的是瞬態(tài)熱線法。由于使用不同測(cè)試原理，不同儀器所測(cè)試出來(lái)的導(dǎo)熱系數(shù)可能會(huì)出現(xiàn)較大差異，所以對(duì)比材料的導(dǎo)熱性能，盡量使用相同儀器進(jìn)行橫向?qū)Ρ取?/span>
　　（1）穩(wěn)態(tài)熱流法，湘潭/湘科、臺(tái)灣瑞領(lǐng)。
　　（2）激光散射法，德國(guó)耐馳、美國(guó)TA。
　　（3）瑞典Hot Disk，瞬變平面熱源法TPS與普通熱流法原理相同，只是增加了保護(hù)加熱器，減少橫向熱損耗，提高測(cè)量精度，測(cè)試種類多：可用于固體、粉末、涂層、薄膜、液體、凝膠、復(fù)合材料和各向異性材料測(cè)試，測(cè)試精度高：為±3%

? 高導(dǎo)熱硅膠墊復(fù)合粉

　　問(wèn)題4：你好，你們公司有沒(méi)有比較合適做2.0W/m*K高回彈導(dǎo)熱墊片的產(chǎn)品？
　　答：目前我們也有接觸到一些做高回彈導(dǎo)熱片的項(xiàng)目，粉體方面您可以嘗試一下我們的2.0W/m*K墊片用導(dǎo)熱粉。粉體改性后能改善與基體的相容性，降低填料對(duì)制品的性能影響，但回彈性能與基體關(guān)系更大，建議可能從基膠上調(diào)整效果會(huì)更好。

問(wèn)題5：如何解決產(chǎn)品指標(biāo)不穩(wěn)定的問(wèn)題？
答：闡述指標(biāo)不穩(wěn)定的原因：客戶訂單量不穩(wěn)定導(dǎo)致原料為不同批次采購(gòu)；產(chǎn)品出庫(kù)檢測(cè)與客戶入庫(kù)檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)不一致等原因。
品質(zhì)管控辦法：可通過(guò)控制原材料指標(biāo)，引進(jìn)新型設(shè)備，管控工藝過(guò)程，減少生產(chǎn)的人為主管因素等方式，同時(shí)建立客觀的內(nèi)控標(biāo)準(zhǔn)體系。
優(yōu)勢(shì)介紹：我司產(chǎn)品品質(zhì)的單一指標(biāo)可能不是行業(yè)最好的，但是力求品質(zhì)合格指標(biāo)的穩(wěn)定性。

問(wèn)題6：擊穿電壓的影響因素有哪些？
答：A、產(chǎn)品中雜質(zhì)的含量。鋁礦和Na、K、Ca、Fe屬于伴生礦，水洗的生產(chǎn)工藝可能會(huì)有雜質(zhì)殘留，尤其是Na2O（100PPM以下含量0.01%）的殘留。可使用ICP光譜測(cè)法檢測(cè)。

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